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半导体化学清洗的3个方面

在半导体器件和集成电路生产中,化学清洗主要包括三个方面:一是半导体材料的清洗,这是化学清洗的重点。半导体材料主要有锗、硅和砷化镓。目前,碓器件最多、产量最大、应用最广,所以硅材料的清洗是化学清洗的一…
2020-02-25 13:35类目:清洗方法汇总 标签: 半导体化学清洗

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