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晶片清洗
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半导体硅
晶片清洗
工艺发展现状
在超大规模集成电路(ULSI)工艺中,晶片清洗的技术及洁净度(cleanliness)是影响晶片成品率(yield)、器件的品质(qualit)及其可靠性(
2020-02-27 13:14
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晶片清洗
的要求和规范
清洗的目的主要是清除晶片表面的污染( contamination),如微粒(particle)、有机物(organie)及金属离子( metal ions )等杂质( impu
2020-02-27 13:03
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其他清洗
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